拓荆科技：PECVD龙头看上去很美

老牛

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第一财经

拓荆科技（688072.SH）自4月20日上市以来股价一路高歌猛进，其在PECVD国产化领域的稀缺性与巨大替代空间无疑是主要看点。

PECVD，即等离子体增强化学气相沉积设备，是薄膜沉积设备的一种。薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中的三大核心设备之一，其投资规模占设备总投资的20%，晶圆制造设备总投资的25%，在半导体设备中价值量仅次于刻蚀机。

目前国内能够量产集成电路PECVD的厂商仅拓荆科技一家。“拓荆科技今年的营收和利润能够起量，我们是看好的。”某券商电子行业首席分析师告诉第一财经，“目标市值约250亿元。”

而这位科创板新贵背后，还有国家大基金、国投上海和中微公司（688012.SH）的身影。拓荆科技无控股股东和实际控制人，第一大股东为国家集成电路基金，持股19.86%；国投上海持股13.68%；中微公司目前持有拓荆科技1062.2547万股，占其股权比例为8.40%。

唯一能量产PECVD的本土设备厂商

薄膜沉积是指在硅片表面按照一定顺序，生长出半导体、绝缘介质和导电层等不同成分的膜层的工艺。有多种技术可以将需要的膜层沉积到晶圆的表面，其中比较重要的有化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)和原子层沉积(ALD)。薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积，在芯片完成制造、封测等工序后会留存在芯片中，其技术参数直接影响芯片性能。

根据Maximize Market Research数据统计，2017-2019年全球半导体薄膜沉积设备市场规模分别为125亿、145亿和155亿美元，2020年扩大至约172亿美元，年复合增长率（CAGR）为11.2%。该机构预计，2025年，全球半导体薄膜沉积设备市场规模将扩大至340亿美元，保持年复合14.6%的增长速度。

国内半导体设备市场约占全球市场的26.29%，东北证券由此测算，2020年国内薄膜沉积设备市场规模约为45.22亿美元。

从增速来看，CVD设备2011-2021年复合增速为13.41%，仅次于干法刻蚀设备。常用CVD设备包括PECVD、SACVD、APCVD、LPCVD等，适用于不同工艺节点对膜质量、厚度以及孔隙沟槽填充能力等的不同要求。

目前国内能够量产集成电路PECVD的厂商仅拓荆科技一家，这也是其稀缺性的体现。

国内北方华创（002371.SZ）和中微公司也有薄膜沉积设备产品，但前者的PECVD设备主要应用于光伏和LED领域，后者主要聚焦MOCVD，应用于LED领域，因此拓荆科技的PECVD不与北方华创、中微公司构成直接竞争关系，其主要竞争对手都是国际厂商，产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。

在CVD市场中，应用材料（AMAT）全球占比约为30%，连同泛林半导体（Lam）的21%和TEL的19%，三大厂商占据了全球70%的市场份额。

目前，拓荆科技已形成16种不同型号的PECVD设备，覆盖180-14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM及64/128层FLASH制造工艺需求，客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、重庆万国半导体科技有限公司等。

此外，拓荆科技已推出多款不同工艺的SACVD设备，可沉积BPSG、SAF材料薄膜，能适配12英寸40/28nm以及8英寸90nm以上的逻辑芯片制造工艺需求，是国内唯一一家产业化应用的集成电路SACVD设备厂商。

在集成电路ALD设备领域，拓荆科技也积累了多项核心技术，目前已适配55-14nm逻辑芯片制造工艺需求，可为晶圆制造客户提供量产的SiO2工艺型号PE-ALD设备，与北方华创的Thermal ALD设备错位竞争。

产品国内市占率有逾10倍提升空间

根据拓荆科技招股书引用的Gartner数据，在全球薄膜沉积设备中，PECVD是占比最高的设备类型，占整体薄膜沉积设备市场的33%；其次为溅射PVD设备，占比19%；ALD设备是第三大细分市场，占据薄膜沉积设备市场的11%；SACVD是新兴的设备类型，属于其他薄膜沉积设备类目下的产品，占比较小。

东北证券测算，国内PECVD的市场规模约15亿美元，2021年拓荆科技PECVD营收为6.75亿元人民币，国内市占率6.96%，仍有较大提升空间；而据拓荆科技招股书，ALD设备和SACVD设备2020年国内市场空间分别为32.33亿、8.82亿元，拓荆2021年ALD设备和SACVD设备营收分别为0.41亿、0.29亿元，国内市占率分别为1.27%、3.25%。

根据中国国际招投标网公布的信息，长江存储、上海华力、华虹无锡、上海积塔、中芯绍兴、合肥晶合等中国本土晶圆厂正在加大设备采购力度，将带动半导体薄膜沉积设备的需求增长。

第一财经在此前的调研中发现，本土晶圆厂更倾向于采购国产设备，国内半导体设备厂商基本不缺订单，重点在于产能与交付。

截至2021年9月，拓荆科技研发的PECVD、ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台。其中，PECVD设备是拓荆科技的主要收入来源，占比近九成。

近四年拓荆科技的销售额持续提升，毛利率水平也上升至45.55%，PECVD设备毛利率由2020年的35.49%上升至43.31%。这一毛利率水平已接近主要竞争对手应材、泛林半导体、先晶半导体2020年的毛利率水平。

多家机构认为，拓荆科技的ALD设备和SACVD设备的产线验证持续进行中，有望进一步开拓市场，成为拓荆科技未来新的增长极。

截至2021年9月，拓荆科技已分别通过ICRD和燕东微电子的产线验证销售了一台ALD设备和一台SACVD设备；共计8台ALD、SACVD设备处于产线验证中，其中有三台是首台产品；此外，公司分别与ICRD和浙江创芯集成电路有限公司签署了ALD设备和SACVD设备的正式销售合同，尚未发货。

研发方面，拓荆科技研发投入力度较大，这也是公司业绩亏损的主要原因之一。2018-2021年1-9月，公司研发费用分别为10797.31万、7431.87万、12278.18万和12955.63万元，占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。截至2021年9月，拓荆科技研发人员占比为44.06%。

目前拓荆科技客户主要在国内，其在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发，若进展顺利，将有希望打开海外市场。

本文不构成任何投资建议，投资者据此操作，一切后果自负。市场有风险，投资需谨慎。