|
（来源：西藏一哥 今天）
先说几个认识的误区。
１.我们国家有没有光刻机和蚀刻机?
答案:有的, 光刻机: 上海微电子 蚀刻机: 中微半导体. 都是上海的.
2. 我们国家没有ASMl光刻机?
答案：有的，有500台ASMl光刻机在我国。其中3台在国企手中
3. 我们国家没有国产的光刻机？
答案：有的, 上海微电子的光刻机已经出货了100台了
４. 是不是世界上都在用７nm芯片？
答案：不是。7nm芯片在全世界产量不到1%. 45%芯片在22nm-90nm, 30%芯片 280-350nm，24%芯片在110nm-280nm
intel现在的芯片是14nm, 10nm刚发布。还不知道明年能不能量产。
你以为没有国产？是你太小自己了，我们能把人都送上太空又接回来，我们是有技术，只是没有最先进的技术。
国产光刻机什么水平？现在最新设备制程在90nm（ArF)
如果对这个90nm没概念.继续往后。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
昨天为什么要炒光刻胶呢？
因为：
1. 整个芯片制造过程。光刻成本占40%
2. 一台光刻机几个亿，买一个用好几年。而光刻胶做为核心耗材，天天用，月月用，年年用。用量大。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－接入正题－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
科普光刻胶
一. 光刻胶分类
1. 印刷电路板（PCB)光刻胶
2. 液晶显示屏(LCD)光刻胶，有机发光二极管(LED/OLED)光刻胶
3. 半导体晶圆加工光刻胶
二. 光刻胶理（用PCB举例）
1.用光刻胶涂抹在铜箔上，湿膜就是涂，干膜就是贴上
2. 贴上菲林，用光刻机曝光，未盖被住的光刻胶在自外线光下就会产生化学反应，盖住的部分就未化学反应。而后用化学试机洗掉已经化学反应的光刻胶，就裸露出铜箔。
✨蓝色字即可领取精心整理的资料包（雪球福利），进游资机构策略研习 群！
3.就是和光刻机一样重要的蚀刻机，蚀刻机就是咬掉这些露出的铜箔
4.最后就是再次清洗，把盖住的部分未反应的光刻胶洗掉。就留下了需要的漂亮的线路
5. 光刻胶有2种。叫正胶和负胶。我说的是第1次洗紫外线反应过光刻胶，还有一种正好相反，第1次洗未反应的。
6. PCB都是多层板，线路一层一层做就可以了。压合在一起，每一层线路通过中间的小圆孔(钻探化学沉铜）上下几层都能导通号
二. 半导体光刻胶
光刻胶理都一样。半导体的都是纳米级别。肉眼是不到线路的。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
上市公司光刻胶发展水平
1. 印刷电路板（PCB)光刻胶
2. 液晶显示屏(LCD)光刻胶，有机发光二极管(LED/OLED)光刻胶
3. 半导体晶圆加工光刻胶
现在我们国家最先进光刻机是第四代ArF 上海微电子90nm的光刻机
但是没有配套的国产的光刻胶
最有前途的光刻胶就在此表
第四代芯片90nm芯片(ArF)
1.承担这个任务国家“02专项”193nm光刻胶ArF的是上海新阳 300236 , 南大光电 300346 , 北京科华（高盟新材 300200 持股3.67%)
第二代芯片280nm芯片(i-line)
2.本来做pcb光刻胶的容大感光 300576 已经做出了248nm光刻胶i-line,并小批量生产
第三代芯片110nm芯片(KrF)
3.强力新材 300429 PCB光刻胶光引发剂供货世界顶级干膜厂商，KrF光刻胶用光酸、光酸中间体及聚合物(量产)
第二，三代芯片110nm-280nm芯片(i-line,KrF)
4.晶瑞股份 300655 248nm光刻胶i-line，KrF都量产，KrF级已在无锡海力士使用，中芯国际 测试
5.江化微 603078 nm光刻胶２次使用的清洗试剂都提供，都是量产
我国国家的光刻机和光刻胶说完了
我相未来一定会更好！！！加油！！！！！
Intel的历史
你们发现了吗？intel外号“牙膏厂”2014年后就14nm一直不前进。2019年发布了10nm CPU,还不知道明年会不会良率问题夭折
为什么？因为制程越来越小，摩尔定律失效了。
所以我们国家一定会追的上，因为你越跑越慢，而我们是越跑越快。
| 
发表于 2020-3-17 16:39:27
楼主