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什么是cowos封装

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发表于 昨天 19:35 | 显示全部楼层 |阅读模式
详细文章来源:https://www.eefocus.com/article/1949962.html


CoWoS(全称 Chip-on-Wafer-on-Substrate,即 “芯片 - 晶圆 - 基板封装”)是由台积电(TSMC)开发并主导的革命性先进封装技术,属于 2.5D 封装的核心代表。它通过在硅中介层(Silicon Interposer)上集成多颗异构芯片(如高性能逻辑芯片与高带宽存储器),并将整个堆叠结构与有机基板互连,实现超高密度、超低延迟的系统级集成,成为推动人工智能(AI)、高性能计算(HPC)及数据中心芯片发展的关键技术引擎。

一、技术本质与核心架构
1.名称拆解与封装原理
CoW(Chip-on-Wafer):首先将多个功能芯片(如 GPU、CPU、AI 加速芯片等逻辑芯片及高带宽存储器 HBM 裸片)通过微凸块(Micro-Bumps)或混合键合技术垂直堆叠并互连到一片硅晶圆中介层上,形成高密度的芯片堆叠体(CoW 模组)。

WoS(Wafer-on-Substrate):再将上述 CoW 模组整体通过硅通孔(TSV)及再分布层(RDL)连接到更大尺寸的有机基板上,最终实现完整的封装体,与外部系统(如印刷电路板)通信。

核心逻辑:通过硅中介层作为桥梁,将不同功能、不同制程(甚至不同厂商)的芯片集成在同一封装内,突破传统单芯片设计的物理限制,实现异构系统级芯片(SiP)集成。

2.中介层(Interposer):技术核心枢纽
硅中介层是 CoWoS 封装的核心创新载体:

硅通孔(TSV):在中介层晶圆内制造微米级垂直互连通道,贯通芯片堆叠体的顶层与底层,实现从逻辑芯片→中介层→基板的高效电信号传输,缩短数据路径,降低延迟与功耗。

高密度再分布层(RDL):中介层表面采用先进光刻工艺构建多层铜布线网络(线宽 / 间距可达亚微米级),为堆叠芯片提供超高密度的互连接口,支持超高速数据传输(如 HBM 与逻辑芯片间的带宽需求)。

深沟槽电容器(DTC):部分中介层嵌入嵌入式电容,优化电源完整性(PI),抑制电源噪声,保障高频信号稳定性。
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